簡(jiǎn)介　　

    半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備最穩(wěn)定及符合工業(yè)及需求之最佳原件，百分之百避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)，極簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求，提供完整之電源供應(yīng)原件，可提供單一膜塊獨(dú)立電源供應(yīng)，可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù)，膜塊設(shè)計(jì)最高可承受工作壓力100psi膜塊設(shè)計(jì)最高可承受工作溫度45℃(113 )，高溫專用膜塊最高可承受工作溫度80℃(176 )，完全無(wú)需停機(jī)再生，影響制程，無(wú)需使用酸堿再生也無(wú)廢水排放。

工作流程

　　預(yù)處理——RO裝置——中間水箱——中間水泵——EDI裝置——純水水箱——純水泵——用水點(diǎn)。

優(yōu)點(diǎn)

　　不耗酸、堿、自動(dòng)再生。

　　占地面積小，自動(dòng)化程度高。

　　出水質(zhì)量高且可調(diào)整。

　　單機(jī)產(chǎn)水量：50m3/h。

　　產(chǎn)水電阻：≥15MΩ.cm(25℃)。

　　適用于電廠化水、鍋爐補(bǔ)給水、冶金、汽車工業(yè)。

　應(yīng)用領(lǐng)域

　　1、電廠化學(xué)水處理。

　　2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水。

　　3、食品、飲料、飲用水的制備。

　　4、小型純水站，團(tuán)體飲用純水。

　　5、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。

　　6、其他行業(yè)所需的高純水制備。

　　7、制藥工業(yè)工藝用水。

　　8、海水、苦咸水的淡化。